为什么13.5纳米极紫外光, 能刻出10纳米电路？
视频内容简介：
现代电子设备的核心离不开微型芯片，每颗芯片里都集成了数十亿个纳米级晶体管。要制造如此复杂的结构，最关键的设备就是光刻机，其中最先进的是极紫外光刻系统（EUV）。它利用波长仅13.5纳米的光，把掩模上的电路图案精准转印到硅晶圆上。
光刻过程大致是：先在晶圆表面涂上光刻胶，再用极紫外光照射掩模，图案被复制到晶圆上，经过显影、蚀刻和沉积形成电路结构。这样的步骤要反复八十次以上，才能完成一块GPU芯片的所有层，整个流程需耗时数月。
EUV光源的产生极为复杂：高能激光轰击锡液滴，使其瞬间气化成等离子体，从而释放出极紫外光。为了保证精度，系统需要真空环境、纳米级对准、磁悬浮晶圆台以及多层布拉格反射镜。
本视频翻译自：
https://www.youtube.com/watch?v=B2482h_TNwg
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