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视频内容简介: 现代电子设备的核心离不开微型芯片,每颗芯片里都集成了数十亿个纳米级晶体管。要制造如此复杂的结构,最关键的设备就是光刻机,其中最先进的是极紫外光刻系统(EUV)。它利用波长仅13.5纳米的光,把掩模上的电路图案精准转印到硅晶圆上。 光刻过程大致是:先在晶圆表面涂上光刻胶,再用极紫外光照射掩模,图案被复制到晶圆上,经过显影、蚀刻和沉积形成电路结构。这样的步骤要反复八十次以上,才能完成一块GPU芯片的所有层,整个流程需耗时数月。 EUV光源的产生极为复杂:高能激光轰击锡液滴,使其瞬间气化成等离子体,从而释放出极紫外光。为了保证精度,系统需要真空环境、纳米级对准、磁悬浮晶圆台以及多层布拉格反射镜。 本视频翻译自: https://www.youtube.com/watch?v=B2482h_TNwg
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https://x.com/DefenceHQ/status/1962109305190056097
不知不觉夏天就要结束了,为了留住他,我用胶片将这最美好的回忆记了下来
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什么?还有如此攒劲的飞塔?!
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